低吸收高均匀合成石英玻璃研究进展
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2025-06-04
编号：FTJS107248
篇名： 低吸收高均匀合成石英玻璃研究进展
作者： 孙绯 刘俊龙 樊明轩 陈祥 周妍希 张寒
关键词： 低吸收 高均匀 合成石英玻璃 制备方法
机构：湖北菲利华石英玻璃股份有限公司 特种光学玻璃材料技术创新中心
摘要： 低吸收高均匀合成石英玻璃具有极低的羟基含量、金属杂质含量和极佳的光学均匀性,是高功率激光光学和半导体光刻领域的关键材料。通过对国内外低吸收高均匀合成石英玻璃的技术发展现状进行综述,指出了目前与国外产品存在的差距,同时也讨论了低吸收高均匀合成石英玻璃制备方法的区别并介绍了此类产品性能要求及主要应用场景。
